В статье рассматривается влияние временных характеристик импульсного питания на дугообразование и стабильность процесса при реактивном магнетронном распылении. В работе приведены экспериментально полученные зависимости напряжения разряда от частоты следования импульсов и длительности положительного импульса. The article considers the influence of the temporal characteristics of pulsed power supply on arcing and process stability during reactive magnetron sputtering. The paper presents the experimentally obtained dependences of the discharge voltage on the pulse repetition rate and the duration of the positive pulse.