Материалов:
875 618

Репозиториев:
30

Авторов:
596 024

Влияние временных характеристик импульсного питания на дугообразование и стабильность процесса при реактивном магнетронном распылении

Дата публикации: 2022

Дата публикации в реестре: 2024-03-01T13:37:59Z

Аннотация:

В статье рассматривается влияние временных характеристик импульсного питания на дугообразование и стабильность процесса при реактивном магнетронном распылении. В работе приведены экспериментально полученные зависимости напряжения разряда от частоты следования импульсов и длительности положительного импульса. The article considers the influence of the temporal characteristics of pulsed power supply on arcing and process stability during reactive magnetron sputtering. The paper presents the experimentally obtained dependences of the discharge voltage on the pulse repetition rate and the duration of the positive pulse.

Тип: Статья


Связанные документы (рекомендация CORE)